MPS Kuşatımlı- CdS Nano Yapılar İçeren İnce Filmlerin Optik Özelliklerinin İncelenmesi
Tezin Türü: Yüksek Lisans
Tezin Yürütüldüğü Kurum: Yıldız Teknik Üniversitesi, Fen-Edebiyat Fakültesi, Fizik Bölümü, Türkiye
Tezin Onay Tarihi: 2016
Tezin Dili: Türkçe
Öğrenci: Anıl Kar
Asıl Danışman (Eş Danışmanlı Tezler İçin): Mustafa Okutan
Eş Danışman: Kenan Koç
Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu
Özet:Bu çalışmada, kolloidal CdS kuantum noktaları MPS (3-mercaptopropyltrimethoxysilane) molekülünün farklı molar oranları kullanılarak sentezlenmiştir. MPS hem kuşatım ajanı olarak hem de SiO2 ağı üretiminde kullanılmıştır. Döndürme yöntemi kullanılarak kolloidal nanoparçacıkları cam yüzey üzerine kaplanmıştır. Bu çalışmada üretilen öreneklerin söndürme katsayısı, kırılma indisi, dielektrik sabiti, ilk eksiton piki enerji (E¬1s-1s) değerleri ve kalınlık değerleri tespit edilmiştir. Sonuçlara göre filmlerin geçirgenlik değerleri MPS oranının artışı ile artış göstermektedir. Diğer tarftan, filmlerin kırılma indisleri farklı MPS konsantrasyonları ile geniş bir değer aralığında (550nm' de 2.1-1.6 ) değişkenlik göstermektedir. Filmlerin kırılma indisi değerleri bulk CdS yarıiletkeni ile saf haldeki SiO2 filminin kırılma indisi değeri aralığında bulunmuştur. Elde edilen sonuçlara göre, kırılma indisi değerleri MPS konstrasyonun molar oranı artışı ile azalmaktadır. Bunun sebebi MPS' nin molar oranı artışı SiO2 ağında artışa sebeb olmakta ve böylecede karşıt olarak CdS miktarında azalmaya neden olmasıdır. Buda göstermiştirki, MPS konsantrasyonu ayarlanarak, bu filmler istenen optiksel özeliklerine ulaşılabilir. Ayrıca sonuçlar gösteriyorki, söndürme katsayısı ve filmlerin soğruma sınırları, MPS konsantrasyonu artışı ile kuantum sınırlamasının etkisi nedeniyle düşük dalga boylarına doğru kaymaktadır. Dolayısı ile E¬1s-1s değerleri MPS konsantrasyonun artşı ile artmaktadır. Bunun nedeni; daha yüksek MPS molar konsantrasyonlarında daha küçük CdS kuantum noktaların elde edilmesidir.